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德国ZESTRON ATRON® SP 200水基清洗剂
ATRON SP 200 ATRON SP 200是一款水基碱性表面活性剂型清洗液，特别设计用于清洗焊接夹具和冷凝管上烘焙过的助焊剂。ATRON SP 200对于清除网板上的焊锡膏也非常有效。可应用于喷淋清洗设备、超声波清洗设备或者空气
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2025-09-29 |
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德国zestron ATRON SP300焊接夹具的清洗剂
ATRON SP 300 ATRON SP 300 是一款水基碱性清洗剂，特别设计用于清除旋风器、冷凝管和焊接夹具上烘焙过的助焊剂残留物。 ATRON SP 300 可使用于单槽空气辅助清洗设备中，或是用于清洗容器和管道的外部装置中。相较于
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2025-09-29 |
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德国ZESTRON ATRON® SP 400 水基清洗剂
ATRON SP 400 ATRON SP 400是一款水基碱性表面活性剂型清洗液，特别设计用于清洗焊接夹具和冷凝管上被烘焙的助焊剂。 ATRON SP 400 专门设计用于喷淋式清洗工艺。相较于其他清洗液的优势： ATRONSP 400不易起泡，即
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2025-09-29 |
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德国ZESTRON HYDRON SC 300水基钢网清洗剂
HYDRON SC 300 HYDRON SC 300 是一款单相水基型清洗产品，用于在室温条件下对SMT钢网进行清洗。该清洗剂能够高效地在单一工艺中去除锡膏及SMT贴片胶残留。HYDRONSC 300同时适用于清洗和漂洗应用，在烘干后不会留下残
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2025-09-29 |
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德国ZESTRON HYDRON® SE 220半导体清洗剂
HYDRON SE 220 HYDRON SE 220是一款水基型单相清洗液,专门设计用于浸没式清洗工艺。HYDRON SE 220能够有效去除芯片黏着后引线框架、分立器件、功率模块、功率LED等多种半导体电子器件上的助焊剂残留，对于倒装芯片、
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2025-09-29 |
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德国ZESTRON HYDRON SE 230A碱性清洗剂
HYDRON SE 230A 专为浸没式清洗工艺设计的单相水基型清洗剂，能够有效去除多种半导体电子器件芯片焊接后的助焊剂残留物，包括引线框架、分立器件、功率模块、功率LED、倒装芯片和CMOS，且能够保证有效去除铜表面的氧
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2025-09-29 |
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德国ZESTRON® CO 150 无水共溶工艺的精密清洗液
ZESTRON CO 150 ZESTRON CO 150是一款为浸入式超声波清洗工艺而研发的溶剂型清洗液。ZESTRON CO150可在不被稀释的情况下用作预清洗，或与HFE溶剂混合作为共溶溶剂使用。ZESTRON CO 150特别适用于去除电子组装件，功
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2025-09-29 |
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德国ZESTRON HYDRON® WS 400水基清洗剂
HYDRON WS 400 HYDRON WS 400 是一款水基型清洗剂，特别设计用于去除电子组装件上水溶性(WS)助焊剂残留物。该清洗剂与敏感金属兼容。HYDRON WS 400 在低浓度(3%-5%)应用时，可渗透去离子水无法达到的低底部间隙元器
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2025-09-29 |
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